Atomic layer deposition (ALD) ose vaila'au fa'apipi'i ausa fa'atekonolosi e fa'atupuina ai ata manifinifi fa'afa'afa e ala i le tu'iina fa'asolosolo lua po'o le sili atu molela'au muamua. ALD o loʻo i ai le lelei o le maualuga o le pulea ma le tutusa, ma e mafai ona faʻaaogaina lautele i masini semiconductor, masini optoelectronic, masini e teu ai le malosi ma isi fanua. O mataupu faavae o le ALD e aofia ai le faʻauluina o mea muamua, tali i luga ma le faʻaaogaina o oloa, ma e mafai ona fausia mea faʻapipiʻi e ala i le toe faia o laasaga nei i se taamilosaga. O le ALD o loʻo i ai uiga ma faʻamanuiaga o le maualuga o le pulea, tutusa, ma le le faʻaogaina o le fausaga, ma e mafai ona faʻaaogaina mo le faʻapipiʻiina o mea eseese ma mea eseese.
O le ALD o loʻo i ai uiga ma mea lelei:
1. Pulea maualuga:Talu ai o le ALD o se fa'asologa o le tuputupu a'e i luga ole laiga, o le mafiafia ma le tu'ufa'atasiga o vaega ta'itasi o mea e mafai ona fa'atonu sa'o.
2. Tulaga tutusa:E mafai e le ALD ona tu'u tutusa mea i luga o le mea'ai atoa, aloese mai le le tutusa e ono tupu i isi tekinolosi fa'aputu.
3. Fa'atonuga e le porous:Talu ai o le ALD o lo'o teuina i iunite o atoms tasi po'o mole mole tasi, o le ata e maua mai e masani lava ona i ai se fausaga mafiafia, e le porous.
4. Lelei le fa'atinoga o fa'asalalauga:E mafai e le ALD ona faʻapipiʻi lelei le maualuga o faʻatusatusaga o fausaga, e pei o nanopore arrays, mea maualuga porosity, ma isi.
5. Scalability:ALD e mafai ona faʻaaogaina mo le tele o mea faʻapipiʻi, e aofia ai metala, semiconductor, tioata, ma isi.
6. Fetuuna'i:E ala i le filifilia o molelaʻau muamua, o mea eseese eseese e mafai ona teuina i le faagasologa o le ALD, e pei o metal oxides, sulfides, nitride, ma isi.
