O auala faʻapipiʻi o le photoresist e masani ona vaevaeina i le faʻapipiʻi faʻapipiʻi, faʻapipiʻi faʻapipiʻi ma le faʻapipiʻi taʻavale, e aofia ai le faʻaogaina o le vili e sili ona faʻaaogaina. E ala i le vili vili, e fa'ateteina le photoresist i luga o le mea'ai, ma e mafai ona fesuia'i le mea'ai i le saoasaoa maualuga e maua ai se ata tifaga photoresist. A maeʻa lena, e mafai ona maua se ata tifaga malosi e ala i le faʻamafanafanaina i luga o se ipu vevela. E fetaui lelei le faʻapipiʻi faʻapipiʻi mo le faʻapipiʻiina mai ata sili ona manifinifi (tusa ma le 20nm) i ata mafiafia e tusa ma le 100um. O ona uiga e tutusa lelei, mafiafia ata tifaga toniga i le va o wafers, nai faaletonu, ma isi, ma se ata tifaga ma le faatinoga maualuga coating e mafai ona maua.
Fa'agasologa fa'apipi'i
I le taimi o le vili vili, o le saosaoa autu o le taamilosaga o le substrate e iloa ai le mafiafia ata o le photoresist. O le sootaga i le va o le saoasaoa o le taamilosaga ma le mafiafia o ata e faapea:
Milo=kTn
I le fua fa'atatau, Spin o le saoasaoa o le taamilosaga; T o le mafiafia ata; o k ma le n e tumau.
O a'afiaga e a'afia ai le fa'agasologa o le fa'apipi'iina
E ui lava o le mafiafia o le ata e fuafua i le saoasaoa tele o le taamilosaga, e fesoʻotaʻi foi ma le vevela o le potu, susu, viscosity photoresist ma le ituaiga photoresist. Fa'atusatusaga o ituaiga eseese o pupuni faʻapipiʻi photoresist o loʻo faʻaalia i le Ata 1.
Ata 1: Fa'atusatusaga o ituaiga 'ese'ese pupuni fa'apipi'i photoresist
Le a'afiaga ole taimi fa'asolo autu
O le puupuu o le taimi autu o le taamilosaga, o le mafiafia o le mafiafia o le ata. A fa'atuputeleina le taimi autu o le taamilosaga, o le a sili atu le manifinifi o le ata. A sili atu i le 20s, o le mafiafia o ata e tumau pea e le suia. O le mea lea, o le taimi autu o le taamilosaga e masani ona filifilia e sili atu i le 20 sekone. O le sootaga i le va o le taimi autu o le taamilosaga ma le mafiafia o ata o loʻo faʻaalia i le Ata 2.
Ata 2: So'oga i le va o le ta'amilosaga autu ma le mafiafia o ata
Pe a faʻafefete le photoresist i luga o le substrate, e tusa lava pe tutusa le saoasaoa o le taamilosaga autu mulimuli ane, o le saoasaoa o le suiga o le substrate i le taimi o le tafe o le a aafia ai le mafiafia ata tifaga mulimuli. O le mafiafia o le ata photoresist e faateleina i le faateleina o le saoasaoa o le suiga o le substrate i le taimi o le tafe, lea e mafua ona o le aafiaga o le solvent evaporation pe a tatala le photoresist pe a uma ona tafe. Ata 3 o lo'o fa'aalia ai le sootaga i le va o le mafiafia o le ata ma le saosaoa o le taamilosaga autu i saosaoa suiga eseese substrate i le taimi o le fa'ateteina photoresist. E mafai ona vaʻaia mai le faʻataʻitaʻiga faʻatasi ai ma le faʻateleina o le saoasaoa o le taamilosaga o le substrate dripping, o le mafiafia o ata tifaga e suia vave, ma o le eseesega e sili atu ona manino i le eria e maualalo le saoasaoa o le taamilosaga autu.
Ata 3: So'otaga i le va o le mafiafia o ata ma le saoasaoa tele o le suiga i le saoasaoa o le suiga o substrate i le taimi e tu'uina atu ai photoresist.
A'afiaga o le susū i le taimi o le ufiufi
A faʻaitiitia le susu, e faʻateleina le mafiafia o le ata, ona o le faʻaitiitia o le susu e faʻaleleia ai le faʻafefe o le solvent. Ae ui i lea, o le tufatufaina o le mafiafia o ata e le suia tele. O le ata 4 o lo'o fa'aalia ai le va'aiga i le va o le susū ma le tufatufaina o le mafiafia o ata i le taimi e fa'apipi'i ai.
Ata 4: So'oga i le va o le susu ma le tufatufaina o le mafiafia o ata i le taimi o le ufiufi
A'afiaga o le vevela i le taimi o le ufiufi
A maualuga le vevela i totonu, faʻateleina le mafiafia o ata. E mafai ona iloa mai le Ata 5 o le tufatufaina atu o mafiafia ata tifaga photoresist suia mai le convex i concave. O le pupuni i le ata o loʻo faʻaalia ai foi o le maualuga maualuga e maua pe a o le vevela i totonu e 26°C ma le vevela photoresist e 21°C.
Ata 5: Feso'ota'iga i le va o le vevela ma le tufatufaina o le mafiafia o ata i le taimi o le ufiufi
A'afiaga o le saosaoa fa'asesua i le taimi e fa'apipi'i ai
O le ata 6 o lo'o fa'aalia ai le so'oga i le va o le saosaoa o le gasu ma le tufatufaina o le mafiafia o ata. I le leai o se gase, e faʻaalia ai o le ogatotonu o le wafer e foliga mai e mafiafia. O le faʻateleina o le saoasaoa o le a faʻaleleia ai le tutusa, ae afai e faʻateleina tele, o le a faʻaitiitia le tutusa. E mafai ona vaʻaia o loʻo i ai se tau sili ona lelei mo le saoasaoa faʻafefe.
Ata 6: Feso'ota'iga i le va o le saosaoa o le gasese ma le tufatufaina o le mafiafia o ata
Togafitiga ole HMDS
Ina ia mafai ona faʻapipiʻiina le photoresist, e manaʻomia le togafitia o le wafer i le hexamethyldisilazane (HMDS). Aemaise lava pe a faʻapipiʻi le susu i luga o le ata o le Si oxide, ua faia le silanol, lea e faʻaitiitia ai le pipii o le photoresist. Ina ia mafai ona aveese le susu ma faʻaleagaina le silanol, o le wafer e masani ona vevela i le 100-120 ° C, ma faʻafeiloaʻi le puao HMDS e mafua ai se gaioiga faʻamaʻi. O le gaioiga o le tali o loʻo faʻaalia i le Ata 7. E ala i togafitiga HMDS, o le hydrophilic surface ma se laʻititi faʻafesoʻotaʻi laʻititi e avea ma luga ole hydrophobic ma se faʻafesoʻotaʻi tele. O le fa'avevelaina o le wafer e mafai ona maua ai le fa'apipi'i maualuga o le photoresist.
Ata 7: HMDS reaction mechanism
O le aʻafiaga o togafitiga HMDS e mafai ona matauina e ala i le fuaina o le faʻafesoʻotaʻi. O le ata 8 o loʻo faʻaalia ai le sootaga i le va o le taimi o togafitiga HMDS ma le faʻafesoʻotaʻi (vevela o togafitiga 110 ° C). O le substrate o le Si, o le taimi o togafitiga HMDS e sili atu nai lo le 1min, o le faʻafesoʻotaʻi e sili atu nai lo le 80 °, ma o le aʻafiaga o togafitiga e mautu. Ata 9 o loʻo faʻaalia ai le va o le vevela o togafitiga HMDS ma le faʻafesoʻotaʻi (taimi togafitiga 60s). A sili atu le vevela i le 120 ℃, e faʻaitiitia le faʻafesoʻotaʻi, e faʻaalia ai o le HMDS e pala ona o le vevela. O le mea lea, o togafitiga HMDS e masani ona faia ile 100-110℃.
Ata 8: So'oga ile va ole taimi ole togafitiga ole HMDS
ma fa'afeso'ota'i tulimanu (togafitiga vevela 110 ℃)
Ata 9: So'oga ile va ole vevela ole togafitiga ole HMDS ma le fa'afeso'ota'i (taimi o togafitiga 60s)
O le togafitiga o le HMDS e faia i luga o le silicon substrate ma se oxide film e fai ai se ata photoresist. O le ata o le oxide e togitogia i le hydrofluoric acid faatasi ai ma se paʻu faʻaopoopo, ma ua maua a maeʻa togafitiga HMDS, e mafai ona taofia le ata o le photoresist mai le pa'ū. O le ata 10 o loʻo faʻaalia ai le aʻafiaga o togafitiga HMDS (o le tele o le mamanu o le 1um).
Ata 10: A'afiaga o togafitiga HMDS (le lapo'a o le 1um)
Fa'apalapala
I le saoasaoa o le taamilosaga, o le maualuga o le vevela muamua, o le laʻititi o le mafiafia o le ata, lea e taʻu mai ai o le maualuga o le vevela o le meaʻai, o le sili atu o le solvent evaporates, e maua ai se mafiafia ata manifinifi. O le ata 11 o lo'o fa'aalia ai le so'otaga i le va o le vevela a'o le'i tao tao ma le fa'ailoga a le Dill's A. O le fa'ailoga A o lo'o fa'ailoa mai ai le fa'atonuga o le mea e fa'alogoina ata. E pei ona mafai ona vaʻaia mai le faʻataʻitaʻiga, pe a oʻo i luga le 140 ° C le vevela aʻo leʻi taoina, e faʻaitiitia le faʻamaufaʻailoga A, e faʻaalia ai o le mea e faʻaogaina ai le photosensitive e pala i se vevela maualuga atu nai lo lenei. O le ata 12 o lo'o fa'aalia ai le felauaiga o alaleo ile vevela eseese a'o le'i tao tao. I le 160 ° C ma le 180 ° C, o le faateleina o le transmittance e mafai ona matauina i le galu umi o le 300-500nm. O lenei mea e faʻamaonia ai o le mea e faʻaogaina ata e tao ma pala i le maualuga o le vevela. O le vevela muamua o le taoina o loʻo i ai se tau sili ona lelei, lea e faʻamoemoeina i uiga mama ma lagona.
Ata 11: So'oga i le va o le vevela a'o le'i tao tao ma le fa'ailoga a le Dill's A
(fuafuaina o le OFPR-800/2)
Ata 12: Feso'ota'iga fa'ase'e ile vevela 'ese'ese a'o le'i tao tao
(OFPR-800, 1um mafiafia ata)
I se faapuupuuga, o le auala faʻapipiʻi faʻapipiʻi e iai tulaga faʻapitoa e pei o le pulea saʻo o le mafiafia o ata tifaga, maualuga tau faʻatinoga, tulaga faʻagasologa malie, ma le faʻaogaina faigofie, o lea e iai ni aʻafiaga taua i le faʻaitiitia o le filogia, faʻasaoina o le malosi, ma le faʻaleleia o tau. I tausaga talu ai nei, o loʻo faʻateleina le faʻaogaina o le faʻapipiʻiina, ma o lona faʻaogaina ua faasolosolo malie ona sosolo atu i vaega eseese.
Taimi meli: Nov-27-2024