O le a le CVD SiC
O le fa'aputuina o ausa vaila'au (CVD) o se fa'agasologa o le fa'amama gaogao e fa'aaogaina e gaosia ai mea mautu maualuga-mama. O lenei faiga e masani ona faʻaaogaina i le semiconductor gaosiga fanua e fausia ai ata manifinifi i luga o le fafie. I le faagasologa o le saunia o le SiC e le CVD, o le substrate o loʻo faʻaalia i se tasi pe sili atu foʻi faʻamaʻi faʻamaʻi, lea e gaoioi faʻamaʻi i luga o le meaʻai e teu ai le SiC manaʻomia. Faatasi ai ma le tele o metotia mo le sauniaina o mea SiC, o oloa ua saunia e ala i vailaʻau vailaʻau e maualuga le tutusa ma le mama, ma o le metotia e malosi le puleaina o le faagasologa.
O meafaitino CVD SiC e fetaui lelei mo le faʻaogaina i totonu o le semiconductor alamanuia e manaʻomia ai mea maualuga-faʻatinoga ona o la latou tuʻufaʻatasiga tulaga ese o mea sili ona lelei, eletise ma vailaʻau. O vaega o le CVD SiC o loʻo faʻaaogaina lautele i masini etching, masini MOCVD, Si epitaxial mea faigaluega ma SiC epitaxial mea faigaluega, faʻavavevave faʻaogaina masini ma isi fanua.
I le aotelega, o le vaega pito sili ona tele o maketi o vaega o le CVD SiC o loʻo faʻapipiʻiina vaega o meafaigaluega. Ona o le maualalo o le gaioiga ma le amio i le chlorine-ma le fluorine-containing etching gases, CVD silicon carbide o se mea lelei mo vaega e pei o mama taulaʻi i masini etching plasma.
CVD silicon carbide vaega i meafaigaluega etching e aofia ai mama taulaʻi, ulu taele kesi, fata, mama pito, ma isi. Ave le mama taulaʻi e fai ma faʻataʻitaʻiga, o le mama taulaʻi o se vaega taua e tuʻuina i fafo o le wafer ma faʻafesoʻotaʻi saʻo ma le wafer. E ala i le faʻaogaina o le voltage i le mama e taulaʻi ai le plasma e ui atu i totonu o le mama, o loʻo taulaʻi le plasma i le wafer e faʻaleleia ai le tutusa o le gaioiga.
O mama taulaʻi masani e faia i le silikoni poʻo le quartz. Faʻatasi ai ma le alualu i luma o le faʻaogaina o le eletise, o le manaʻoga ma le taua o le faʻaogaina o faiga i totonu o gaosiga faʻatasi o loʻo faʻateleina, ma o loʻo faʻaauau pea ona faʻateleina le malosi ma le malosi o le etching plasma. Aemaise lava, o le malosi o le plasma e manaʻomia i mea faʻapipiʻi faʻapipiʻi (CCP) plasma etching meafaigaluega e maualuga atu, o lea o le faʻaogaina o le faʻaogaina o mama taulaʻi e faia i mea carbide silicon ua faʻateleina. O le ata faʻataʻitaʻiga o le CVD silicon carbide focus ring o loʻo faʻaalia i lalo:
Taimi meli: Iuni-20-2024