I masini etching plasma, o vaega sima e taua tele, e aofia ai lemama taulai.O le mama taulai, tuʻu faʻataʻamilo i le wafer ma faʻafesoʻotaʻi tuusaʻo ma ia, e taua mo le taulaʻi o le plasma i luga o le wafer e ala i le faʻaogaina o le voltage i le mama. O lenei mea e faʻaleleia ai le tutusa o le faiga o le etching.
Fa'aaogāga SiC Focus Rings ile Etching Machines
SiC CVD vaegai masini etching, e pei omama taulai, ulu ta'ele kasa, platens, ma mama pito, e sili ona lelei ona o le maualalo o le gaioiga a le SiC ma le chlorine ma le fluorine-based etching gas ma lona faʻaogaina, ma avea ai ma mea lelei mo meafaigaluega etching plasma.
Tulaga lelei o le SiC e fai ma mea e fa'atatau i le mama
Ona o le faʻaalia saʻo i le plasma i totonu o le potu faʻafefe, e manaʻomia le faia o mama taulaʻi mai mea e puipuia ai le plasma. O mama taulaʻi masani, e faia mai le silikoni poʻo le quartz, e afaina i le le lelei o le etching resistance i le fluorine-based plasmas, e oʻo atu ai i le faʻavaveina o le pala ma faʻaitiitia le lelei.
Fa'atusatusaga i le va o Si ma CVD SiC Focus Rings:
1. Malosi maualuga:Fa'aitiitia le leo togitogi.
2. Avanoa Fa'amau: E maua ai le fa'amalu lelei.
3. Fa'a'ave'aveina Malō maualuga & Fa'ase'e Fa'alautele maualalo: Tete'e i te'i vevela.
4. Elasticity maualuga:Lelei teteʻe i aʻafiaga faʻainisinia.
5. Malosi maualuga: La'ei ma ete'ena.
SiC fa'asoa fa'aulu eletise eletise a'o tu'uina atu le tete'e maualuga atu i le fa'ama'i ionic. A'o fa'agasolo le fa'aitiitiga fa'aitiitiga fa'atasi, ua fa'atupula'ia fo'i le mana'oga mo faiga etching sili atu ona lelei. Plasma etching mea faigaluega, aemaise lava i latou o loʻo faʻaaogaina le capacitive coupled plasma (CCP), e manaʻomia le maualuga o le plasma malosi, faiaSiC taula'i mamafaateleina le lauiloa.
Si ma CVD SiC Focus Ring Parameters:
| Parameter | Siliko (Si) | CVD Silicon Carbide (SiC) |
| Malosi (g/cm³) | 2.33 | 3.21 |
| Va'a Fa'aili (eV) | 1.12 | 2.3 |
| Fa'avevela vevela (W/cm°C) | 1.5 | 5 |
| Fa'atele Fa'aavela (x10⁻⁶/°C) | 2.6 | 4 |
| Elastic Modulus (GPa) | 150 | 440 |
| Malosi | Maulalo | Maualuga |
Fa'agasologa o le Gausia o SiC Focus Rings
I masini semiconductor, CVD (Chemical Vapor Deposition) e masani ona faʻaaogaina e gaosia ai vaega SiC. O mama taula'i e gaosia e ala i le teuina o le SiC i foliga fa'apitoa e ala i le fa'aputuina o ausa, sosoo ai ma le fa'aogaina o masini e fai ai le oloa mulimuli. O le fua faatatau o mea mo le teuina o ausa e faʻamautu pe a maeʻa faʻataʻitaʻiga tele, faia faʻamaufaʻailoga pei o le resistivity tumau. Ae ui i lea, o meafaigaluega etching eseese e ono manaʻomia ni mama taulaʻi ma fesuiaiga eseese, e manaʻomia ai ni suʻega fou o meafaitino mo faʻamatalaga taʻitasi, lea e alu ai le taimi ma taugata.
E ala i le filifiliaSiC taula'i mamamaiSemicera Semiconductor, e mafai e tagata fa'atau oloa ona maua fa'amanuiaga o ta'amilosaga fa'asolosolo umi ma fa'atinoga sili atu e aunoa ma se fa'atuputeleina tele o tau.
Vaega ole Fa'agaioiina Fa'asao vave (RTP).
O mea fa'apitoa fa'avela a le CVD SiC e fa'alelei ai mo talosaga RTP. Vaega RTP, e aofia ai mama pito ma platens, manuia mai CVD SiC. I le taimi o le RTP, o lo'o fa'aogaina le malosi o le vevela i luga o fafie ta'itasi mo ni taimi pupuu, sosoo ai ma le fa'amalo vave. O mama pito o le CVD SiC, e manifinifi ma e maualalo le vevela, e le taofia ai le vevela tele, e le afaina ai i le vave vevela ma le malulu.
Vaega Etching Plasma
O le maualuga o vaila'au fa'asaina a le CVD SiC e talafeagai mo le fa'aogaina o fa'aoga. O le tele o potu etching e fa'aaogaina ipu kasa CVD SiC e tufatufa atu ai kasa etching, o lo'o i ai le faitau afe o pu laiti mo le fa'asalalauina o le plasma. Pe a fa'atusatusa i isi mea, o le CVD SiC o lo'o i ai se fa'agaoioiga maualalo i kasa chlorine ma fluorine. I le etching mago, CVD SiC vaega e pei o mama taulai, ICP platens, mama tuaoi, ma showerheads e masani ona faaaoga.
O mama taulaʻi SiC, faʻatasi ai ma a latou voltage faʻaogaina mo le taulaʻi o le plasma, e tatau ona lava le amio. E masani lava ona faia i le silikoni, o mama taulaʻi e faʻaalia i kasa faʻafefe o loʻo i ai le fluorine ma le chlorine, e oʻo atu ai i le pala e le maalofia. O mama taulaʻi SiC, faʻatasi ai ma le maualuga o le faʻamaʻiina o le pala, e ofoina atu le umi o le ola pe a faʻatusatusa i mama silikoni.
Fa'atusatusaga o le olaga:
· SiC Taulai Mama:Suia i le 15 i le 20 aso.
· Silikoni Taulai Mama:Suia i le 10 i le 12 aso.
E ui o mama SiC e 2 i le 3 taimi e sili atu le taugata nai lo mama silikoni, o le faʻalauteleina o le suiga o le taamilosaga e faʻaitiitia ai le aofaʻi o tau o mea e sui ai, ona o mea uma e ofuina i totonu o le potu e suia i le taimi e tasi pe a tatalaina le potu mo le suia o mama.
Semicera Semiconductor's SiC Focus Rings
Semicera Semiconductor ofo atu SiC mama mama i tau latalata i mama silicon, faatasi ai ma le taimi taitai e tusa ma le 30 aso. E ala i le tuʻufaʻatasia o mama taulaʻi SiC a Semicera i masini etching plasma, lelei ma umi le ola e matua faʻaleleia, faʻaititia le aofaʻi o tau o le tausiga ma faʻaleleia le gaosiga lelei. E le gata i lea, e mafai e Semicera ona faʻapipiʻiina le resistivity o mama taulaʻi e fetaui ma manaoga faʻapitoa a tagata faatau.
E ala i le filifilia o mama taulaʻi SiC mai Semicera Semiconductor, e mafai e tagata faʻatau ona ausia faʻamanuiaga o le umi o suiga o taamilosaga ma le maualuga o le faʻatinoga e aunoa ma se faʻaopoopoga tele o tau.
Taimi meli: Iul-10-2024