O le Solid SiC Focus Ring mai Semicera o se vaega pito sili ona faʻatulagaina e faʻafetaui ai manaʻoga o le gaosiga o semiconductor. Faia mai le mama maualugaSilicon Carbide (SiC), O lenei mama taulaʻi e lelei mo le tele o faʻaoga i totonu o le semiconductor industry, aemaise lava iCVD SiC faiga, etching plasma, maICPRIE (Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching). E lauiloa i le tulaga ese o le ofuina o lavalava, maualuga le mautu o le vevela, ma le mama, e mautinoa ai le umi o le faatinoga i totonu o siosiomaga maualuga.
I semiconductorwaferfa'agaioiga, Mālō SiC Focus Mama e taua tele i le fa'atumauina sa'o sa'o a'o fa'amamago ma wafer etching talosaga. O le mama taula'i SiC e fesoasoani i le taula'i o le plasma i le taimi o fa'agasologa e pei o le fa'aogaina o masini etching plasma, ma fa'atauaina ai mo le togiina o mea fa'apipi'i silikoni. Ole mea mautu SiC e ofoina atu e le mafaatusalia le tetee i le tafia, faʻamautinoa le umi o au meafaigaluega ma faʻaitiitia le taimi faʻaletonu, lea e manaʻomia mo le faʻatumauina o le maualuga o le gaosiga i le semiconductor fabrication.
Ole Solid SiC Focus Ring mai Semicera ua fa'ainisinia e tatalia le vevela vevela ma vaila'au fa'amalosi e masani ona fa'afeiloa'i ile pisinisi semiconductor. O lo'o fa'atulagaina fa'apitoa mo le fa'aogaina i galuega fa'apitoa e pei oCVD SiC coatings, lea e sili ona taua le mama ma le tumau. Faatasi ai ma le sili ona tetee atu i le te'i vevela, o lenei oloa e mautinoa ai le tumau ma le mautu o le faatinoga i lalo o tulaga sili ona faigata, e aofia ai le faʻaalia i le maualuga o le vevela i le taimiwaferfaiga etching.
I fa'aoga semiconductor, o le sa'o ma le fa'amaoni e taua, o le Solid SiC Focus Ring o lo'o i ai se sao taua i le fa'aleleia atili o le lelei atoatoa o faiga fa'aoga. O lona malosi, maualuga-fa'atinoga mamanu e faia ai le filifiliga sili mo alamanuia e mana'omia vaega maualuga-mama e fa'atino i lalo o tulaga ogaoga. Pe faʻaaogaina imama CVD SiCtalosaga po'o se vaega ole plasma etching process, Semicera's Solid SiC Focus Ring e fesoasoani i le fa'amalieina o au mea faigaluega, ofoina atu le umi ma le fa'atuatuaina o mea e mana'omia e au gaosiga.
Vaega Autu:
• E sili atu le tete'e o le ofuina ma maualuga le mautu vevela
• Meamea Solid SiC mama maualuga mo le umi o le olaga
• Lelei mo etching plasma, ICP RIE, ma talosaga etching mago
• Fa'ato'a lelei mo fa'ama'i masi, aemaise i faiga CVD SiC
• Fa'atuatuaina fa'atinoga i si'osi'omaga ogaoga ma le vevela maualuga
• Fa'amautinoa le sa'o ma le lelei i le togitogiina o masi fa'asilika
Talosaga:
• CVD SiC fa'agasologa i le gaosiga semiconductor
• Fa'ata'ita'iga o le Plasma ma le ICP RIE
• Fa'agogo fa'agogo ma wafer fa'agasolo
• Etching ma tuu i masini etching plasma
• Vaega sa'o mo mama mama ma mama CVD SiC