Metotia mo le saunia o le fa'apipi'i carbide silicon

I le taimi nei, o auala sauniuni o le SiC coating e masani lava ona aofia ai le gel-sol method, faʻapipiʻi auala, auala faʻapipiʻi pulumu, auala faʻapipiʻi plasma, kesi kesi kesi (CVR) ma vailaʻau faʻafusu auala (CVD).

Metotia fa'apipi'i:

O le auala o se ituaiga o maualuga vevela vaega sintering, lea e masani ona faʻaaogaina le faʻafefiloi o le paʻu Si ma le paʻu C e pei o le faʻapipiʻiina o le paʻu, o le graphite matrix o loʻo tuʻuina i totonu o le faʻapipiʻiina o le paʻu, ma le maualuga o le vevela o le sintering o loʻo faia i totonu o le kesi inert. , ma mulimuli ane maua le SiC coating i luga o le mata o le graphite matrix.O le faagasologa e faigofie ma o le tuufaatasiga i le va o le ufiufi ma le substrate e lelei, ae o le tutusa o le ufiufi i luga o le itu mafiafia e le lelei, lea e faigofie ona maua ai le tele o pu ma taʻitaʻia ai le le lelei o le faʻamaʻiina.

Auala e ufiufi ai le pulumu:

O le auala e faʻapipiʻi ai le pulumu e masani lava o le fufuluina o mea mataʻu vai i luga o le mata o le graphite matrix, ona faʻamalolo ai lea o mea mata i se vevela faapitoa e saunia ai le ufiufi.O le faagasologa e faigofie ma e maualalo le tau, ae o le faʻapipiʻi saunia e ala i le pulumu faʻapipiʻi auala e vaivai i le tuʻufaʻatasia ma le substrate, e le lelei le faʻaogaina o le ufiufi, e manifinifi le ufiufi ma e maualalo le faʻamaʻiina o le faʻamaʻiina, ma isi metotia e manaʻomia e fesoasoani ai. lea.

Fa'asalaina auala:

O le auala e faʻafefe ai le plasma e masani lava ona faʻafefeteina pe faʻafefeteina mea mataʻutia i luga o le mata o le graphite matrix ma se fana plasma, ona faʻamalosi lea ma faʻapipiʻi e fai ai se ufiufi.O le auala e faigofie ona faʻaogaina ma e mafai ona saunia se faʻapipiʻi carbide silikoni mafiafia, ae o le carbide silicon coating saunia e le metotia e masani ona vaivai tele ma taʻitaʻia ai le vaivai o le faʻamaʻiina o le oxidation, o lea e masani ona faʻaaogaina mo le saunia o le SiC composite coating e faʻaleleia atili ai. le lelei o le ufiufi.

Metotia gel-sol:

O le auala gel-sol e masani lava ona saunia se toniga ma manino sol fofo e ufiufi ai luga o le matrix, faʻamago i totonu o se gel ona faʻapipiʻi ai lea e maua ai se ufiufi.O lenei metotia e faigofie ona faʻaogaina ma maualalo i le tau, ae o le faʻapipiʻiina o loʻo gaosia o loʻo i ai ni faaletonu e pei o le maualalo o le teteʻe o le vevela ma le faigofie ona taʻe, o lea e le mafai ona faʻaaogaina lautele.

Fa'a'a'ai Kesi (CVR):

O le CVR e masani lava ona gaosia le SiC coating e ala i le faʻaaogaina o le Si ma le SiO2 paʻu e faʻatupu ai le ausa SiO i le maualuga o le vevela, ma o se faasologa o gaioiga faʻasolosolo e tupu i luga o le C material substrate.O le SiC coating na saunia e lenei metotia e vavalalata vavalalata i le substrate, ae o le vevela o le tali e maualuga atu ma maualuga le tau.

Fa'afitia Ausa Fa'ama'i (CVD):

I le taimi nei, o le CVD o le tekonolosi autu mo le saunia o le SiC coating i luga o le substrate surface.O le fa'agasologa autu o se fa'asologa o gaioiga fa'aletino ma vaila'au o mea e fa'afefeteina vaega kesi i luga o le substrate surface, ma mulimuli ane saunia le SiC coating e ala i le tu'uina i luga o le substrate surface.O le SiC coating saunia e tekinolosi CVD e vavalalata vavalalata i luga o le substrate, lea e mafai ona faʻaleleia lelei le faʻamaʻiina o le faʻamaʻiina ma le faʻafefeteina o le mea faʻapipiʻi, ae o le taimi o le tuʻuina atu o lenei metotia e umi atu, ma o le kesi tali e iai se mea oona. kesi.